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超LSIの製造技術 2巻 超LSIのプロセス技術
商品コード：
NKVS-1054202

超LSIの製造技術 2巻 超LSIのプロセス技術

販売価格(税込)：
30,800 円
関連カテゴリ：  制御・エレクトロニクス


収録時間
 45分
監修
 酒井　徹志(日本電信電話(株))
小切間　正彦((株)日立製作所)
制作年
 1990年
内容
 　今日のエレクトロニクス産業の発展には、目を見張るものがあります。これを支えてきたのは急速な半導体技術の進歩にほかなりません。ご承知のように、代表的なLSIメモリーのDRAMは、開発競争が激化しています。
　このような状況の中で、本ビデオでは、基本的なデバイス技術から最新の微細加工技術を中心に超LSIの製造プロセスを現場撮影とCGを駆使してわかりやすく映像化いたしました。

第2巻　超LSIのプロセス技術[45分]
1.CMOSの製造工程
2.バイポーラおよびBiCMOSの製造工程
3.クリーンルーム
4.品質保証
数量：
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